Eletrodeposição de filmes finos de cobalto em silício tipo-n monocristalino

Repositório institucional da UFSC

dc.contributor	Universidade Federal de Santa Catarina	pt_BR
dc.contributor.advisor	Pasa, Andre Avelino	pt_BR
dc.contributor.author	Munford, Maximiliano Luis	pt_BR
dc.date.accessioned	2012-10-17T05:35:14Z
dc.date.available	2012-10-17T05:35:14Z
dc.date.issued	1998
dc.date.submitted	1998	pt_BR
dc.identifier.other	142151	pt_BR
dc.identifier.uri	http://repositorio.ufsc.br/xmlui/handle/123456789/77585
dc.description	Dissertação (Mestrado) - Universidade Federal de Santa Catarina, Centro de Ciências Físicas e Matemáticas.	pt_BR
dc.format.extent	78f.\| il., grafs.	pt_BR
dc.language.iso	por	pt_BR
dc.publisher	Florianópolis, SC	pt_BR
dc.subject.classification	Teses	pt_BR
dc.subject.classification	Filmes finos	pt_BR
dc.subject.classification	Teses	pt_BR
dc.subject.classification	Eletrodeposição	pt_BR
dc.title	Eletrodeposição de filmes finos de cobalto em silício tipo-n monocristalino	pt_BR
dc.type	Dissertação (Mestrado)	pt_BR

Arquivos	Tamanho	Formato	Visualização
142151.pdf	13.81Mb	PDF	Visualizar/Abrir