Técnica de eletrodeposição utilizada para crescimento de filmes finos

Abstract

A técnica de eletrodeposição para crescimento de filmes finos em substratos foi objeto de estudo no período de bolsa PIBIC 2020/2021. O tema escolhido está em sintonia com os trabalhos em desenvolvimento no grupo de pesquisa Laboratório de Filmes Finos e Superfícies (LFFS), onde posso destacar o crescimento de filmes finos de seleneto de bismuto em substratos de silício, com espessuras abaixo de 1 µm. Este é um semicondutor, segundo a literatura, pode apresentar diferentes fases cristalinas, hexagonal ou ortorrômbica, e valores de gap óptico que variam de 0,3 a 1,25 eV. A motivação para o estudo deste material reside em suas propriedades termoelétricas e optoeletrônicas, que são de grande interesse no desenvolvimento de dispositivos na área de geradores termoelétricos, microeletrônica e spintrônica. A técnica de eletroquímica apresenta vantagens em relação a outros métodos usuais no crescimento de camadas finas sobre substratos: custo reduzido, eficiente e arranjo experimental relativamente simples. O objetivo geral do trabalho de Iniciação Científica (IC) no período foi apreender a metodologia de crescimento de filmes finos, especificando o material Bi2Se3 utilizando a técnica de eletrodeposição. Para isto, foram realizadas atividades de estudos dirigidos e seminários semanais onde aprendemos sobre a técnica e suas aplicações, a exemplo do material seleneto de bismuto. Deste modo, foi possível desenvolver atividades de IC atendendo o objetivo do projeto apresentado no Edital, ao mesmo tempo atender a indicação da administração da UFSC, evitando a circulação de pessoas na Instituição no período da pandemia.